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習(xí)近平考察武漢,強(qiáng)調(diào)要充分發(fā)揮人才優(yōu)勢(shì)
2018-04-26 19:55:30 來源: 新華網(wǎng) 提示:全文字,閱讀需要分鐘
關(guān)注學(xué)習(xí)進(jìn)行時(shí)
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攝影:鞠鵬

  習(xí)近平考察集成電路生產(chǎn)線:一些重大核心技術(shù)必須靠自己攻堅(jiān)克難

  26日上午,習(xí)近平來到武漢新芯集成電路制造有限公司,察看集成電路生產(chǎn)線,了解芯片全流程智能化制造和加快國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程等情況。習(xí)近平說,要實(shí)現(xiàn)“兩個(gè)一百年”奮斗目標(biāo),一些重大核心技術(shù)必須靠自己攻堅(jiān)克難。機(jī)遇前所未有,挑戰(zhàn)前所未有。所有關(guān)鍵崗位、重要產(chǎn)業(yè),都要有一份責(zé)任感、使命感。每個(gè)人都要在各自的崗位上,為實(shí)現(xiàn)中華民族偉大復(fù)興中國(guó)夢(mèng)作出貢獻(xiàn)。

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